滿足半導體生產(chǎn)全階段的超純水需求
在高新科技領域，特別是半導體生產(chǎn)中，超純水扮演著至關重要的角色。其水質直接影響到半導體產(chǎn)品的良品率和生產(chǎn)效率，因此，滿足半導體生產(chǎn)全階段的超純水需求，需要采用專業(yè)的超純水工藝。
一、超純水工藝概述
超純水工藝是通過一系列精細的處理步驟，將普通水中的雜質、電解質、有機物、微生物和溶解氣體等去除，以達到超純水的標準。這一過程通常需要經(jīng)過多步處理，包括預處理、反滲透、電去離子（EDI）、拋光混床等。
1. 預處理：
通過多介質過濾、活性炭吸附等手段，去除水中的懸浮物、膠體、有機物等雜質。
軟化處理，降低水中的硬度離子含量。
2. 反滲透：
利用反滲透膜的選擇透過性，將水中的溶解性鹽類、有機物、細菌等大部分去除。
反滲透膜具有水滲透效果好、離子截留率高、抗污染能力強的特點。
3. 電去離子（EDI）：
利用電場作用，使水中的離子通過離子交換膜進行遷移和去除。
EDI技術可以實現(xiàn)帶電荷運行，加快離子遷移速度，提高脫鹽率。
4. 拋光混床：
作為超純水設備的末端工藝，進一步去除水中的微量雜質，確保出水水質穩(wěn)定達標。
二、高新科技在超純水工藝
百惠浦環(huán)保作為國內超純水領域的代表性企業(yè)，通過技術研發(fā)和工藝創(chuàng)新，成功滿足了半導體生產(chǎn)全階段的超純水需求。
1. 先進的制備工藝：
涵蓋了多介質過濾、活性炭吸附、離子交換、反滲透膜、紫外線殺菌、紫外線TOC去除、電滲析、超濾、納濾、真空脫氣塔、膜脫氣等超過18項專業(yè)處理工藝環(huán)節(jié)。
通過8次增壓提升，確保產(chǎn)水水質接近絕對純度，電導率無限接近18.24MΩ的理論極限值。
2. 一體化智能超純水系統(tǒng)：
系統(tǒng)應用場景多元，裝備即接即用，具備遠程智能運維功能。
模塊化設計使得系統(tǒng)便于移動和快速部署，輕松嵌入各種生產(chǎn)場景。
智能化運維，自動運行，無人值守，大幅提升了運維效率。
3. 廢水處理和回用水技術：
采用多級化學混凝、氨氮吹脫和生物處理等多項工藝，高效去除芯片廢水中的復雜污染物。
結合先進的回用水處理技術，實現(xiàn)水資源循環(huán)利用，項目水平衡設計使得全廠用水回收率高達90%。
三、超純水在半導體生產(chǎn)中的應用
在半導體生產(chǎn)中，超純水被廣泛應用于晶圓沖洗、化學品稀釋等多個關鍵環(huán)節(jié)。其水質與半導體的良品率直接相關，因此，對超純水的質量把控異常嚴格。
1. 晶圓沖洗：
使用超純水對晶圓進行沖洗，可以去除晶圓表面的雜質和污染物，確保晶圓表面的潔凈度。
2. 化學品稀釋：
在半導體生產(chǎn)中，許多化學品需要使用超純水進行稀釋。超純水的純凈度可以確?；瘜W品的稀釋比例準確，從而提高半導體的生產(chǎn)質量和效率。
高新科技超純水工藝在半導體生產(chǎn)全階段的應用中發(fā)揮著至關重要的作用。通過不斷的技術研發(fā)和工藝創(chuàng)新，可以滿足半導體生產(chǎn)對超純水的高品質需求，推動半導體產(chǎn)業(yè)的持續(xù)發(fā)展和進步。
2024年10月16日
